半導體用工業(yè)冷水機chiller對半導體設備使用的循環(huán)液的溫度、流量和壓力進行準確控制，以實現半導體工藝制程的控溫需求，是集成電路制造過程中的關鍵設備，溫控精度和溫控范圍要求高，應用在刻蝕、薄膜沉積、涂膠顯影、離子注入、CMP等設備。

　　半導體制造工藝主要分為兩大類：前道工藝（晶圓制造）和后道工藝（封裝與測試）。前道工藝涉及硅片加工、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、清洗、拋光、金屬化等環(huán)節(jié)，對應的核心設備包括硅片加工設備、光刻設備、刻蝕設備、清洗設備、離子注入設備、薄膜沉積設備、機械拋光設備、量測設備等。后道工藝涉及封裝設備和測試設備。冠亞恒溫半導體溫用工業(yè)冷水機chiller半導體制造工藝過程中的高精度溫度控制，擁有超過14年的溫度控制經驗和與各行業(yè)配套的經驗，冠亞恒溫為客戶提供標準化和定制化的溫度控制產品，結合專業(yè)技術知識，確保滿足半導體工藝中的苛刻溫度要求。

作為半導體溫控設備供應商，冠亞恒溫擁有多年的溫度控制經驗以及設備機臺配套經驗，掌握了制冷加熱動態(tài)控制技術以及準確控溫技術等半導體溫控設備核心技術，具備單通道、多通道半導體溫控設備批量生產能力；可實現從晶圓制造、涂膠顯影、刻蝕、清洗、薄膜沉積到實驗室測試研發(fā)等各個環(huán)節(jié)中的準確溫控。冠亞恒溫目前已與半導體多領域行業(yè)大企業(yè)達成合作，可為客戶提供標準品及用戶定制品，自2010年創(chuàng)辦以來不斷創(chuàng)新，注重研發(fā)和質量把控，生產的工業(yè)冷水機chiller系列產品具有設置方便、快速響應而準確控溫等特點，實現了低能耗、高穩(wěn)定性的冷卻效果，賦能半導體晶圓制造。